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顯微鏡下的Intel 14納米:晶體管之美

    泡泡網(wǎng)CPU頻道10月28日 Intel 14nm是這個星球上迄今非常先進的半導體工藝,ChipWorks在拿到幾臺Core M筆記本后也迫不及待地拆開,將處理器放到了顯微鏡下進行觀察分析。

顯微鏡下的Intel 14納米:晶體管之美

    經(jīng)過處理后得到的側(cè)視圖,因為放大率比較高所以有些模糊,但依然能夠數(shù)出10個接觸柵極,總間距699nm,每兩個之間約為70nm。

顯微鏡下的Intel 14納米:晶體管之美

    晶體管鰭片。20個之間的間距是843nm,每兩個之間42nm。

顯微鏡下的Intel 14納米:晶體管之美

    都完美符合Intel的宣傳。

顯微鏡下的Intel 14納米:晶體管之美

    橫切面照片。65nm節(jié)點引入的厚金屬頂層依然在,而且現(xiàn)在其下已經(jīng)堆到了13層!以及一個金屬絕緣層。

顯微鏡下的Intel 14納米:晶體管之美

    邊封沒有金屬層和絕緣層,可以很輕松地數(shù)出12層。上一代22nm還只有9層,Bay Trail則是11層,但最多的來自IBM 22nm Power8,15層。

顯微鏡下的Intel 14納米:晶體管之美

    Intel說互連間距是52nm,但實際量了一下是54nm,在誤差范圍內(nèi),但也可能觀察的不是最緊密的部位。

顯微鏡下的Intel 14納米:晶體管之美

    更深入的透射電子顯微鏡觀察正在進行中,屆時將看到晶體管和鰭片。這是Intel官方給出的圖像。就目前看到的而言,Intel 14nm很大程度上就是22nm的縮小增強版,結(jié)構(gòu)設(shè)計并未做太大變動?!?/p>

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