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    切片在摻入一定的化學(xué)物質(zhì)，具備了半導(dǎo)體的特性后，還要經(jīng)過(guò)高溫氧化處理，在表面形成一層厚度嚴(yán)格控制的二氧化硅層。這一層也就是傳說(shuō)中的門(mén)電路，它的作用是控制其間電子的流動(dòng)，最后一道準(zhǔn)備工序就是在二氧化硅層上覆蓋一個(gè)感光層，這一步的目的是使二氧化硅層具備較好的感光效果來(lái)完成后面的光刻蝕，而且在光刻蝕結(jié)束后改層可以使用化學(xué)方法除去。

切片的初始狀態(tài)

氧化并加入感光層

使用嚴(yán)格控制的短波長(zhǎng)的紫外線和大曲率的透鏡開(kāi)始光刻蝕

每一層光刻蝕的圖紙要比整個(gè)紐約地圖還要精細(xì)